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2017年“HUGO BOSS”亚洲新锐艺术家大奖入围作品展在上海揭幕
2017年10月26日 20:24   来源:中新网上海  

  中新网上海新闻10月26日电 (曹牧雨 李佳佳)由上海外滩美术馆与HUGO BOSS联合举办的第三届“HUGO BOSS亚洲新锐艺术家大奖”(以下简称“大奖”)入围艺术家作品展于今日在上海外滩美术馆拉开帷幕。据悉,从2017年10月27日至2018年2月11日,四位入围艺术家的作品展将在上海外滩美术馆对公众开放。展览期间,主办方将举办一系列与公众互动的教育活动,包括讲座、研讨会、工作坊,为市民提供大赛所持续关注的话题。

  本届大奖的4位入围艺术家分别为:李明(中国)、陶辉(中国)、于吉(中国)、赵仁辉(新加坡)。 展览将呈现4位艺术家的代表作品以及委托创作的新作品,他们的艺术作品涵盖雕塑、录像、摄影、装置等,从自然科学研究到观念性的再现,从对城市和人物的观察到把这些观察化为艺术的宣言,充分展现出丰富而灵活的创作形式,以及对个体认知和社会经验的敏感洞察与反馈;他们的作品为视觉艺术带来了新的语言与体验,其中跨领域、跨学科的智识与经验亦令人钦佩。展览过程中,观众们既能够见到艺术家标志性的创作案例,也能够通过全新委托创作的作品,与艺术家们一起发现亚洲新锐艺术家所标记的当代艺术发展的潜力与新动向。

  “大奖”面向新锐艺术家而展开,致力于推动艺术实践与创造性思考,支持亚洲的全新文化挑战,鼓励审美、思想与文化的多样性。两年一届的奖项评选,为艺术与文化的交流作出了历史与社会语境的贡献,持续为亚洲当代艺术领域最新锐的艺术家发声,同时跨越边界与隔阂,促进文化间的交流。为了进一步发掘本次奖项的学术和社会价值,上海美术馆将构建一个公共教育和学术研究的活动平台,在展览期间举办一系列与公众互动的教育活动,包括讲座、研讨会、工作坊,并特别聚焦于本届评奖过程中所凸现的议题,补充并丰富了大奖所持续关注的话题和领域,致力于探索和展现亚洲当代艺术所面临的多项挑战。展览画册将于2017年11月出版。

  2017年 “大奖”将进一步发掘大中华与东南亚地区正在涌现的新锐艺术家,这一地区在文化、社会和历史上展现出的多样性,为艺术家的创造和交流提供了丰沛的机遇和母题。


注:请在转载文章内容时务必注明出处!   编辑:李佳佳

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